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카이스트 반도체공학대학원
공동장비예약시스템

카이스트 반도체공학대학원의 공동 장비 정보를
종합적으로 제공하고 편리한 예약을 도와드립니다.

보유장비

나노종합기술원 교육용팹
Alpha Step

300mm 영역까지 측정 가능한 최적화된 QA/QC 프로파일러

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나노종합기술원 교육용팹
ICP-Asher

Ar, O2 plasma 처리

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나노종합기술원 교육용팹
Furnace

최대 900 도 온도까지 조절할 수 있는 전기로

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나노종합기술원 교육용팹
Manual Mask Aligner

마스크 얼라이너 및 노광장치

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나노종합기술원 교육용팹
MEMS Thermal Evaporator

금속 (Cu, Al, Ni, Cr, Au 등) 시료에 열을 가해 녹인 후 evaporation 시켜 금속박막증착이 가능한 장비

예약 불가

나노종합기술원 교육용팹
CMOS Oxidation Tube Furnace

H2, N2, O2 유입 및 열처리를 통한 Si wafer oxidation

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나노종합기술원 교육용팹
E-beam evaporator

금속 (Cr, Ti, Pt, Au, Pd 등)에 전자 빔을 가해 녹이고 증발시켜 금속 박막을 증착하는 장비

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미래융합소자동 클린룸
Plasma RIE

Ar, O2, SF6 plasma 처리

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미래융합소자동 클린룸
페릴린 코팅 장치

페릴린 코팅

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미래융합소자동 클린룸
Polymer Etcher

Polymer (PDMS, SU-8, Polyimide, Teflon 등) Etching

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미래융합소자동 클린룸
마스크/본드 얼라이너 (Mask/Bond Aligner)

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미래융합소자동 클린룸
진공증착기(THERMAL EVAPORATOR)

열을 이용해 시료를 녹여 증착한다

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미래융합소자동 클린룸
전자빔 증착기 (Ebeam)

전자빔을 통해 금속 박막을 증착하는 장비

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미래융합소자동 클린룸
고주파유도가열기(CMOS용)

고온에서 열처리를 위한 장비

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미래융합소자동 클린룸
고주파유도가열기(MEMS용)

고온에서 열처리를 위한 장비

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미래융합소자동 1층 측정실
AFM

1. 자율사용자 교육 (매달 두번째, 네번째 화요일 4시, 장소: 해당 측정실)  후 예약가능 (일자와 시간을 정해서 이메일 신청: 연구교수 박철민/cheolminpark@kaist.ac.kr)
2. 자율사용자 교육은 Topology 측정에만 해당. 
3. 사용시 장치이상 발견시 필히 연락.
4. 바탕화면 자료 폴더에 분석 프로그램 설치파일과 해당 분석 매뉴얼 pdf 존재함으로 copy해  가도됨.   
5 AFM tip은 랩별 별도 구비해서 가져와서 사용.(추천하는 AFM tip)
      A. Topology  (non-contact)   : NCHR
      B. DCEFM/CAFM (contact)    : NSC36-Cr/Au, NSC36-Ti/Pt , PPP-CONTSCPt
      C. EFM/KPFM (non-contact) : NSC14-Cr/Au, PPP-NCSTAu 
      D. MFM   : PPP-MFMR 
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주요사양
1. XY scan range: 5x5 𝜇𝑚 ~ 100x100 𝜇𝑚
2. Mode : Contact, Non-contact
3. Measurement :
- Topology 
- Lateral Force Microscopy (LFM) 
- Electrostatic Force Microscopy (EFM)
- Conductive-AFM (CAFM)
- Kelvin probe microscopy (KPFM)
- Magnetic Force Microscopy (MFM)

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미래융합소자동 1층 측정실
FESEM/EDS

<예약관련>

(1) 자율사용자 교육 (매달 두번째/네번째 화요일 2시, 장소: 해당 측정실) 후 예약가능. (일자와 시간을 정해서 이메일 신청: 연구교수 박철민, cheolminpark@kaist.ac.kr)

(2) 최소 1시간 예약, 최대3시간 예약

(3) 24시간 예약 사용 가능. 

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 < 사용시 주의사항>

(1) 파우더등 날리는 시료 및 부착이 단단하지 않은 carbon nanotube 및 nanowire 측정 금지.

(2) Vent할때 뚜껑이 아직 닫혀 있는데 과도하게 당겨서 열려고 하지 말 것

(3) Pumping할 때 살짝 뚜껑을 손으로 누르고 있는 상태에서 Pump 버튼을 누른 후 누르는 상태를 10초간 유지.

(4) Working distance를 좁힐 때 조금씩 좁히며, Pole piece에 닿지 않게 주의. (카메라 화면을 보면서 GoTo를 누른 후  pole piece에 닿을 것 같으면 바로 Stop 버튼을 누름)

(5) 전압과 전류를 한번에 과도하게 높이지 말고 점진적으로 높이거나 줄임.

(6) 종료 시 저배율로 하고 전압, 전류 낮춘 후 beam off함.

(7) 시료 수거 후 안전하게 (3)과 같이 Pumping하여 진공 잡고 퇴장함.

*기타 이슈사항 발생시 관리자에게  꼭 연락  (cheolminpark@kaist.ac.kr)

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< 교육 동영상>
중앙분석센터 홈페이지/교육및세미나/교육동영상에서 [S6](Self)Field Emission SEM (Magellan 400)"을 검색해서 해당 영상 참조
 .
<주요사양>
1. 분해능(최적 작동거리 상) : 0.8 nm at 15kV /  0.9 nm at1 kV / 1.5 nm at 200V
2. 측정 가능 영역 :  ≤ 100 nm ~ 1.5 mm
3. 가속전압 : 50 V ~ 30 kV / 빔 전류 : 1 pA ~ 22 nA
4. 5축 피에조 스테이지 : 
- XY: 100 mm, 
-  Z: ≥ 20 mm, 
- T: - 10 ° to + 60 °, 
- R: 360 ° continuous

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미래융합소자동 1층 측정실
광학현미경 (Optical microscopy)

<사용 사항>

(1) ***해당 장비는 예약없이 사용을 바로 할 수 있음*** (사용자가 있을 경우 기다렸다가 사용함.)

(2) 조명은 on한 후 천천히 세기를 올리고, 끌 때도 조명 세기를 약하게 한 후 off함.

(3) 측정 종료 후 조명 끄는 것 잊이 말 것.

(4) 장비 이상 시 연락 (연구교수 박철민 cheolminpark@kaist.ac.kr)

< 장비 사양>

(1) Objective lens : x4, x10, x20, x50, x100

(2) 영상 프로그램을 통해서 이미지 캡쳐 및 길일 측정 가능

(3) x50 objective lens의 경우 bright field 뿐아니라 Dark field 측정도 가능

(4) 480 nm, 550  nm 조명 필터 : 해당 빛 파장에 대한 형광이미징 가능

   U-25Y48 filter : 480 nm 부근 파장을 입사광으로 사용

   U-25IF550 filter  : 550 nm 부근 파장을 입사광으로 사용 

(5) 편광 특성 측정 가능 

   U-PO3 filter :  linear polarizer 조명을 특정 편광으로 조사.

   U-AN360-3 : analyzer 손으로 각도를 조절하여 해당 편광 특성 확인. 

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