KAIST 반도체공학대학원 공동장비 예약

나노종합기술원 교육용팹

Alpha Step

300mm 영역까지 측정 가능한 최적화된 QA/QC 프로파일러

예약하기

나노종합기술원 교육용팹

ICP-Asher

Ar, O2 plasma 처리

예약하기

나노종합기술원 교육용팹

Furnace

최대 900 도 온도까지 조절할 수 있는 전기로

예약하기

나노종합기술원 교육용팹

Manual Mask Aligner

마스크 얼라이너 및 노광장치

예약하기

나노종합기술원 교육용팹

MEMS Thermal Evaporator

금속 (Cu, Al, Ni, Cr, Au 등) 시료에 열을 가해 녹인 후 evaporation 시켜 금속박막증착이 가능한 장비

예약 불가

나노종합기술원 교육용팹

CMOS Oxidation Tube Furnace

H2, N2, O2 유입 및 열처리를 통한 Si wafer oxidation

예약하기

나노종합기술원 교육용팹

E-beam evaporator

금속 (Cr, Ti, Pt, Au, Pd 등)에 전자 빔을 가해 녹이고 증발시켜 금속 박막을 증착하는 장비

예약하기

미래융합소자동 클린룸

Plasma RIE

Ar, O2, SF6 plasma 처리

예약하기

미래융합소자동 클린룸

페릴린 코팅 장치

페릴린 코팅

예약하기

미래융합소자동 클린룸

Polymer Etcher

Polymer (PDMS, SU-8, Polyimide, Teflon 등) Etching

예약하기

미래융합소자동 클린룸

마스크/본드 얼라이너 (Mask/Bond Aligner)

예약하기

미래융합소자동 클린룸

진공증착기(THERMAL EVAPORATOR)

열을 이용해 시료를 녹여 증착한다

예약하기

미래융합소자동 클린룸

전자빔 증착기 (Ebeam)

전자빔을 통해 금속 박막을 증착하는 장비

예약하기

미래융합소자동 클린룸

고주파유도가열기(CMOS용)

고온에서 열처리를 위한 장비

예약하기

미래융합소자동 클린룸

고주파유도가열기(MEMS용)

고온에서 열처리를 위한 장비

예약하기

미래융합소자동 1층 측정실

AFM

1. 자율사용자 교육 (매달 첫번째, 세번째 화요일 2시/4시타임) 후 예약가능 (일자와 시간을 정해서 이메일 신청: 박철민/cheolminpark@kaist.ac.kr)

2. 자율사용자 교육은 Topology 측정에만 해당.

3. 로그북 필수 작성

4. AFM tip은 랩별 별도 구비해서 가져와서 사용.(추천하는 AFM tip)

A. Topology (non-contact) : NCHR

B. DCEFM/CAFM (contact) : NSC36-Cr/Au, NSC36-Ti/Pt , PPP-CONTSCPt

C. EFM/KPFM (non-contact) : NSC14-Cr/Au, PPP-NCSTAu

D. MFM : PPP-MFMR

.

주요사양

1. XY scan range: 5x5 𝜇𝑚 ~ 100x100 𝜇𝑚

2. Mode : Contact, Non-contact

3. Measurement :

- Topology

- Lateral Force Microscopy (LFM)

- Electrostatic Force Microscopy (EFM)

- Conductive-AFM (CAFM)

- Kelvin probe microscopy (KPFM)

- Magnetic Force Microscopy (MFM)

예약하기

미래융합소자동 1층 측정실

FESEM/EDS

<예약관련>

(1) 자율사용자 교육 (매달 두번째/네번째 화요일 2시/4시 타임) 후 예약가능. (일자와 시간을 정해서 이메일 신청: cheolminpark@kaist.ac.kr)

(2) 최소 1시간 예약, 최대3시간 예약

(3) 24시간 예약 사용 가능.

.

< 사용시 주의사항>

(1) 파우더등 날리는 시료 및 부착이 단단하지 않은 carbon nanotube 및 nanowire 측정 금지.

(2) Vent할때 뚜껑이 아직 닫혀 있는데 과도하게 당겨서 열려고 하지 말 것

(3) Pumping할 때 살짝 뚜껑을 손으로 누르고 있는 상태에서 Pump 버튼을 누른 후 누르는 상태를 10초간 유지.

(4) Working distance를 좁힐 때 조금씩 좁히며, Pole piece에 닿지 않게 주의. (카메라 화면을 보면서 GoTo를 누른 후 pole piece에 닿을 것 같으면 바로 Stop 버튼을 누름)

(5) 전압과 전류를 한번에 과도하게 높이지 말고 점진적으로 높이거나 줄임.

(6) 종료 시 저배율로 하고 전압, 전류 낮춘 후 beam off함.

(7) 시료 수거 후 안전하게 (3)과 같이 Pumping하여 진공 잡고 퇴장함.

*기타 이슈사항 발생시 관리자에게 꼭 연락 (cheolminpark@kaist.ac.kr)

.

< 교육 동영상>

중앙분석센터 홈페이지/교육및세미나/교육동영상에서 [S6](Self)Field Emission SEM (Magellan 400)"을 검색해서 해당 영상 참조

.

<주요사양>

1. 분해능(최적 작동거리 상) : 0.8 nm at 15kV / 0.9 nm at1 kV / 1.5 nm at 200V

2. 측정 가능 영역 : ≤ 100 nm ~ 1.5 mm

3. 가속전압 : 50 V ~ 30 kV / 빔 전류 : 1 pA ~ 22 nA

4. 5축 피에조 스테이지 :

- XY: 100 mm,

- Z: ≥ 20 mm,

- T: - 10 ° to + 60 °,

- R: 360 ° continuous

예약하기

미래융합소자동 1층 측정실

광학현미경

<사용 사항>

(1) 해당 장비는 예약없이 사용을 바로 할 수 있음. 사용자가 있을 경우 기다렸다가 사용함.

(2) 조명은 on한 후 천천히 세기를 올리고, 끌 때도 조명 세기를 약하게 한 후 off함.

(3) 측정 종료 후 조명 끄는 것 잊이 말 것.

< 장비 사양>

(1) Objective lens : x4, x10, x20, x50, x100

(2) 영상 프로그램을 통해서 이미지 캡쳐 및 길일 측정 가능

(3) x50 objective lens의 경우 bright field 뿐아니라 Dark field 측정도 가능

(4) 480 nm, 550 nm 조명 필터 : 해당 빛 파장에 대한 형광이미징 가능

U-25Y48 filter : 480 nm 부근 파장을 입사광으로 사용

U-25IF550 filter : 550 nm 부근 파장을 입사광으로 사용

(5) 편광 특성 측정 가능

U-PO3 filter : linear polarizer 조명을 특정 편광으로 조사.

U-AN360-3 : analyzer 손으로 각도를 조절하여 해당 편광 특성 확인.

예약 불가

메인으로 이동

카이스트 반도체공학대학원
공동장비예약시스템

보유장비

카이스트 반도체공학대학원공동장비예약시스템

보유장비

카이스트 반도체공학대학원
공동장비예약시스템