- Beam energy : 20 eV – 30 keV, Beam current : 5 pA – 20 nA
- Writing speed : 0.125 Hz – 20 MHz pixel frequency
- Stage travel range/sample size: 100 mm/ ≤ 4 inch wafer
- Beam size ≤ 1.6 nm @ 20 keV, Beam current density ≥ 7500 A/cm⊃2;, Beam current drift ≤ 0.5% / 8 hours
- Minimum grating periodicity ≤ 40 nm, Minimum linewidth ≤ 8 nm
- Stitching accuracy ≤ 40 nm (mean+3σ), Overlay accuracy ≤ 40 nm (mean+3σ)
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<사용자 주의사항>
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1. 장비 및 주변 시설에 절대 몸을 기대지 말 것.
2. e-beam 노광 중에는 절대 장비를 만지지 말 것.
3. 장비와 연결된 전원, UPS, 분전반의 서킷브레이커 절대 만지지 말 것.
4. stage의 Z(W) 방향 이동시에는 샘플이 column에 충돌하지 않도록 주의할 것.
5. Global coordinate (XYZ)와 local coordinate (UVW) 착각 주의할 것.
6. 기본 manual 및 장비교육에서 다룬 기능 외의 다른 기능을 사용할 시에는 처음 사용 전 관리자에게 문의할 것.
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< 장비 교육 및 자율 사용자 등록>
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1. 한번 교육 및 테스트에 최소 3일 이상 소요됨을 먼저 인지함.
2. 장비 관리자들이 각 연구실 superuser를 교육시키고, superuser는 해당 연구실 학생을 교육한 후, 테스트/라이센스 부여를 관리자가 함.
3. 따라서 장비 담당자에게 문의하여 본인 연구실에 이미 교육 받은 superuser가 있다면 superuser에게 교육을 받은 뒤 장비 담당자 등록 요청. (무조건 동행하여 교육/연습할 것, 단독 사용 적발시 경고 처리)
만약 본인 연구실에 superuser가 없다면 본인이 직접 장비 담당자에게 교육을 받고 본인 랩실에 superuser로서 장비를 활용함.
(1회 최소 예약 시간: 1시간, 최대 예약 시간: 5시간)
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*매달 초에 superuser 교육 진행 예정 (교육 희망하는 경우, 관리자에게 메일로 신청할 것)
(교육 내용이 많으며, 장소 협소하여 한 번에 교육 가능한 인원에 제한이 있을 수 있음.)
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<장비 교육 및 문제 발생시 연락할 장비 학생 담당자>
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김인기, ingee98@kaist.ac.kr, 010-5102-7023
이찬직, chan3627@kaist.ac.kr, 010-3236-7449
