장비 예약
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미래융합소자동 클린룸 고주파유도가열기(MEMS용)고온에서 열처리를 위한 장비
1. Process Temperature / Ambient / Available Sample info./ time- #1 : 800 ~ 1000 ℃ / N2, O2, Ar / Mems / Max 10 minutes- #2 : 600 ~ 800 ℃ / N2, O2, Ar / Mems / Max 40 minutes- #3 : 500 ~ 600 ℃ / N2, O2, Ar / Mems / time limitation X- #4 : 300 ~ 500 ℃ / N2, O2, Ar, high vaccum / Mems / time limitation X2. Sample loading : 8" wafer size / 4" wafer size / piece w/ dummy wafer3. Max gas flow : 1000 sccm4. 오가닉룸 출입구 바로 왼쪽에 위치한 장비5. MEMS용 RTP 장비- 설치장소 미래융합소자동 클린룸 1층 오가닉룸 (입구)
- 모델명 RTP-200
- 담당자 정보
- 사용료 무료