- Beam energy : 10 eV – 30 keV, Beam current : 5 pA – 20 nA
- Writing speed : 0.125 Hz – 20 MHz pixel frequency
- Stage travel range/sample size: 100 mm/ ≤ 4 inch wafer
- Beam size ≤ 1.6 nm @ 20 keV, Beam current density ≥ 7500 A/cm⊃2;, Beam current drift ≤ 0.5% / 8 hours
- Minimum grating periodicity ≤ 40 nm, Minimum linewidth ≤ 8 nm
- Stitching accuracy ≤ 40 nm (mean+3σ), Overlay accuracy ≤ 40 nm (mean+3σ)
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<권장사항>
200 nm 이상의 패턴은 본 장비보다 사용이 더 편리한 Maksless Laser Beam Lithography 장비로도 구현이 가능합니다.
장비 사이트: https://semireserv.kaist.ac.kr/equip_reserve/index/eid/34/lid/2
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< 장비 교육 및 자율 사용자 등록>
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1. 한번 교육 및 테스트에 최소 4일 이상 소요됨을 먼저 인지함.
2. 장비 관리자들이 각 연구실 superuser를 교육시키고, superuser는 해당 연구실 학생을 교육한 후, 테스트/라이센스 부여를 관리자가 함.
(일반 유저 테스트 신청은 superuser를 통해 구글스프레드시트 상의 테스트 희망 인원에 기입할 것. 관리자 로드로 인해 한 달에 진행 가능한 테스트 인원 수에 제한 있을 수 있음.)
3. 따라서 장비 담당자에게 문의하여 본인 연구실에 이미 교육 받은 superuser가 있다면 superuser에게 교육을 받은 뒤 장비 담당자 등록 요청. (무조건 동행하여 교육/연습할 것, 단독 사용 적발시 경고 처리)
만약 본인 연구실에 superuser가 없다면 본인이 직접 장비 담당자에게 교육을 받고 본인 랩실에 superuser로서 장비를 활용함.
(1회 최소 예약 시간: 1시간, 최대 예약 시간: 5시간)
(추가로 시간이 필요한 경우에는 첫 번째 장비 사용 이후 예약이 없을 때에 한에 유저 톡방에 사용자 없는지 확인 후 연장 가능)
(매일 오후 10시 ~ 오전 10시는 최대 12시간 예약하여 사용할 수 있음. 긴 공정 시간을 필요로 하는 경우 해당 시간 활용 추천)
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*매달 23일까지 교육 신청 받고, 그 다음 달 초부터 superuser 교육 진행 예정
(교육 내용이 많으며, 장소 협소하여 한 번에 교육 가능한 인원에 제한이 있을 수 있음.)
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*superuser 교육 신청 시, 연구실에서 논의 후 대표자 1명이 관리자에게 연락하는 것을 권장. (교육 희망하는 경우, 아래 관리자 모두 참조 걸어서 메일로 신청할 것)
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*superuser 교육을 신청하는 연구원은 반드시 미소동 클린룸 출입 권한을 보유해야 하며, 미소동 클린룸은 보안경 착용을 의무로 함.
(출입 권한이 없는 경우, 최인선 안전관리자께 미소동 출입 권한시험 관련 문의할 것.)
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*장비 메뉴얼은 아래 링크를 통해 다운로드 및 숙지 필요
https://www.dropbox.com/scl/fo/8l44e5ty97mg53f4kv7og/AFtMRckmbxzEkISLKybfIHI?rlkey=ai528c6k57c33s1h4dprsltr1&st=x30ab0sk&dl=0
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<장비 교육 및 문제 발생시 연락할 장비 담당 관리자> (반드시 문의 시에는 관리자 모두 참조 걸 것, 그렇지 않으면 대응에 어려움 있을 수 있음.)
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이찬직, chan3627@kaist.ac.kr, 010-3236-7449
김인기, ingee98@kaist.ac.kr, 010-5102-7023
미래융합소자동 클린룸 E-beam Lithography< 장비 사양>- Beam energy : 10 eV – 30 keV, Beam current : 5 pA – 20 nA- Writing speed : 0.125 Hz – 20 MHz pixel frequency- Stage travel range/sample size: 100 mm/ ≤ 4 inch wafer- Beam size ≤ 1.6 nm @ 20 keV, Beam current density ≥ 7500 A/cm⊃2;, Beam current drift ≤ 0.5% / 8 hours- Minimum grating periodicity ≤ 40 nm, Minimum linewidth ≤ 8 nm- Stitching accuracy ≤ 40 nm (mean+3σ), Overlay accuracy ≤ 40 nm (mean+3σ).<권장사항>200 nm 이상의 패턴은 본 장비보다 사용이 더 편리한 Maksless Laser Beam Lithography 장비로도 구현이 가능합니다.장비 사이트: https://semireserv.kaist.ac.kr/equip_reserve/index/eid/34/lid/2.<사용자 주의사항>.1. 장비 및 주변 시설에 절대 몸을 기대지 말 것.2. e-beam 노광 중에는 절대 장비를 만지지 말 것.3. 장비와 연결된 전원, UPS, 분전반의 서킷브레이커 절대 만지지 말 것.4. stage의 Z(W) 방향 이동시에는 샘플이 column에 충돌하지 않도록 주의할 것.5. Global coordinate (XYZ)와 local coordinate (UVW) 착각 주의할 것.6. 기본 manual 및 장비교육에서 다룬 기능 외의 다른 기능을 사용할 시에는 처음 사용 전 관리자에게 문의할 것..< 장비 교육 및 자율 사용자 등록>.1. 한번 교육 및 테스트에 최소 4일 이상 소요됨을 먼저 인지함.2. 장비 관리자들이 각 연구실 superuser를 교육시키고, superuser는 해당 연구실 학생을 교육한 후, 테스트/라이센스 부여를 관리자가 함.(일반 유저 테스트 신청은 superuser를 통해 구글스프레드시트 상의 테스트 희망 인원에 기입할 것. 관리자 로드로 인해 한 달에 진행 가능한 테스트 인원 수에 제한 있을 수 있음.)3. 따라서 장비 담당자에게 문의하여 본인 연구실에 이미 교육 받은 superuser가 있다면 superuser에게 교육을 받은 뒤 장비 담당자 등록 요청. (무조건 동행하여 교육/연습할 것, 단독 사용 적발시 경고 처리)만약 본인 연구실에 superuser가 없다면 본인이 직접 장비 담당자에게 교육을 받고 본인 랩실에 superuser로서 장비를 활용함.(1회 최소 예약 시간: 1시간, 최대 예약 시간: 5시간)(추가로 시간이 필요한 경우에는 첫 번째 장비 사용 이후 예약이 없을 때에 한에 유저 톡방에 사용자 없는지 확인 후 연장 가능)(매일 오후 10시 ~ 오전 10시는 최대 12시간 예약하여 사용할 수 있음. 긴 공정 시간을 필요로 하는 경우 해당 시간 활용 추천).*매달 23일까지 교육 신청 받고, 그 다음 달 초부터 superuser 교육 진행 예정(교육 내용이 많으며, 장소 협소하여 한 번에 교육 가능한 인원에 제한이 있을 수 있음.).*superuser 교육 신청 시, 연구실에서 논의 후 대표자 1명이 관리자에게 연락하는 것을 권장. (교육 희망하는 경우, 아래 관리자 모두 참조 걸어서 메일로 신청할 것).*superuser 교육을 신청하는 연구원은 반드시 미소동 클린룸 출입 권한을 보유해야 하며, 미소동 클린룸은 보안경 착용을 의무로 함.(출입 권한이 없는 경우, 최인선 안전관리자께 미소동 출입 권한시험 관련 문의할 것.).*장비 메뉴얼은 아래 링크를 통해 다운로드 및 숙지 필요https://www.dropbox.com/scl/fo/8l44e5ty97mg53f4kv7og/AFtMRckmbxzEkISLKybfIHI?rlkey=ai528c6k57c33s1h4dprsltr1&st=x30ab0sk&dl=0.<장비 교육 및 문제 발생시 연락할 장비 담당 관리자> (반드시 문의 시에는 관리자 모두 참조 걸 것, 그렇지 않으면 대응에 어려움 있을 수 있음.).강동길, gobong988@kaist.ac.kr, 010-4669-9751이찬직, chan3627@kaist.ac.kr, 010-3236-7449김인기, ingee98@kaist.ac.kr, 010-5102-7023