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  • 나노종합기술원 교육용팹 CMOS Oxidation Tube Furnace

    H2, N2, O2 유입 및 열처리를 통한 Si wafer oxidation

    • 설치장소 나노종합기술원 교육용팹 4층 교육용팹 CMOS room
    • 모델명 SFJ-2000
    • 담당자 정보

      박영근 pyk0808@kaist.ac.kr

    • 사용료 무료
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