장비 정보 | KAIST 반도체공학대학원 공동장비 예약

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장비 정보

나노종합기술원 교육용팹 ICP-Asher
Ar, O2 plasma 처리
- 설치장소 나노종합기술원 교육용팹 4층 교육용팹 CMOS room
- 모델명 KVA-3008DC
- 담당자 정보
  노건우 rkw0803@kaist.ac.kr
- 사용료 무료
나노종합기술원 교육용팹 CMOS Oxidation Tube Furnace
H2, N2, O2 유입 및 열처리를 통한 Si wafer oxidation
- 설치장소 나노종합기술원 교육용팹 4층 교육용팹 CMOS room
- 모델명 SFJ-2000
- 담당자 정보
  박영근 pyk0808@kaist.ac.kr
- 사용료 무료
나노종합기술원 교육용팹 MEMS Thermal Evaporator
금속 (Cu, Al, Ni, Cr, Au 등) 시료에 열을 가해 녹인 후 evaporation 시켜 금속박막증착이 가능한 장비
- 설치장소 나노종합기술원 교육용팹 4층 교육용팹 MEMS room
- 모델명 KVE-T2010
- 담당자 정보
  백종수 jsbaek1121@kaist.ac.kr
- 사용료 무료
나노종합기술원 교육용팹 Manual Mask Aligner
마스크 얼라이너 및 노광장치
- 설치장소 나노종합기술원 교육용팹 4층 교육용팹
- 모델명 MJB4
- 담당자 정보
  최효준 hyojun97123@kaist.ac.kr
- 사용료 무료